[发明专利]成像设备

说明书

提供一种成像设备，包括感光鼓、曝光头、基框架和弹簧。曝光头包括光发射器、透镜阵列和头框架，且能够在可暴露位置和缩回位置之间移动。基框架支撑感光鼓且包括基准面。基准面被构造为：当曝光头在可暴露位置处时，通过被曝光头的头框架接触，限定曝光头的就正交于来自光发射器的光的光轴方向和感光鼓的旋转轴线方向的副扫描方向而言的位置。弹簧被布置在头框架中且朝向基准面挤压头框架。

技术领域

本公开涉及一种包括曝光头的成像设备，该曝光头可以将感光鼓暴露于光。

背景技术

在例如日本专利临时公布特开2009-157142中公开了一种具有曝光头的成像设备。根据该公布，曝光头可以在其侧向端部处由被附接到主框架中的侧向区域的臂向前推压，从而曝光头的这些侧向端部可以在主框架中的这些侧向区域处被推压抵靠接触部。因此，曝光头可以就前后方向而言位于主框架中的正确位置处。

发明内容

同时，当组装该成像设备时，在曝光头被安设在成像设备中之后，用于推压曝光头的臂可以被可枢转地附接到主框架。因此，成像设备中的曝光头和其它邻近制品可以考虑到臂的布置被安设在主框架中，从而臂可以被附接到主框架而不与曝光头及其它制品干涉。在这方面，在成像设备的本体中的构件的布局的自由度可能被限制。

本公开有利之处在于提供一种成像设备，其中在成像设备的本体中的构件的布局的自由度可以被增加。

根据本公开，提供一种成像设备，所述成像设备包括感光鼓、曝光头、基框架和弹簧。所述曝光头包括：多个光发射器，所述多个光发射器沿着所述感光鼓的旋转轴线方向对准；透镜阵列，所述透镜阵列将来自所述光发射器的光聚焦在所述感光鼓上；和头框架，所述头框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列。所述曝光头能够在可暴露位置和缩回位置之间移动，在所述可暴露位置中所述感光鼓被暴露于光，在所述缩回位置中所述曝光头离所述感光鼓比在所述可暴露位置中的所述曝光头离所述感光鼓远。所述基框架支撑所述感光鼓，并且所述基框架包括基准面。所述基准面被构造为当所述曝光头在所述可暴露位置处时通过被所述曝光头的所述头框架接触而限定所述曝光头的就副扫描方向而言的位置，所述副扫描方向正交于所述光的光轴方向和所述旋转轴线方向。所述弹簧被布置在所述头框架中，所述弹簧将所述头框架朝向所述基准面挤压。

可选地，沿着所述旋转轴线方向观察，所述基准面可以呈凸弧形形状。

可选地，所述基准面可以包括第一基准面、第二基准面和第三基准面，所述第一基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的一侧上，所述第二基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的另一侧上，所述第三基准面被布置在所述基框架的就所述旋转轴线方向而言的所述一侧上。所述第一基准面和所述第三基准面可以被布置成在所述光轴方向上彼此隔开。

可选地，所述头框架可以包括第一框架和第二框架，所述第一框架支撑所述光发射器和所述透镜阵列，所述第二框架支撑所述第一框架。所述弹簧可以被布置在所述第二框架中。

可选地，所述成像设备可以进一步包括挤压器，所述挤压器接触所述基框架。所述挤压器可以由树脂制成。所述弹簧可以挤压所述挤压器。

可选地，所述头框架可以包括引导部，所述引导部被构造为引导所述挤压器在所述副扫描方向上移动。

可选地，所述弹簧可以就所述旋转轴线方向而言被布置在用于所述曝光头的可暴露范围的外侧。

可选地，所述曝光头可以包括接触部，所述接触部被构造为接触所述基框架，以沿着所述光轴方向限定在所述透镜阵列和所述感光鼓之间的距离。所述弹簧可以沿着所述旋转轴线方向被布置在用于所述曝光头的可暴露范围的隔着所述接触部的相反的一侧上。

附图说明

图1是根据本公开的实施例的彩色打印机的例证剖视图。

图2是根据本公开的实施例的彩色打印机(其中盖打开)的例证剖视图。