[发明专利]基于激光照射不同材料对表面微结构成型影响的研究方法在审

专利信息
申请号: 201711339146.9 申请日: 2017-12-14
公开(公告)号: CN108318485A 公开(公告)日: 2018-07-24
发明(设计)人: 张俐楠;郭子望;吴立群;王洪成;程从秀 申请(专利权)人: 杭州电子科技大学
主分类号: G01N21/84 分类号: G01N21/84;B82Y35/00;B82Y40/00
代理公司: 杭州千克知识产权代理有限公司 33246 代理人: 周希良
地址: 310018 浙江省杭州市杭*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 基于激光照射不同材料对表面微结构成型影响的研究方法,其按如下步骤:步骤一:利用飞秒激光照射硅基板,硅基板形成表面凸起;步骤二:基于相场模型理论,构建数学模型,对硅基板凸起成型实验进行仿真分析;步骤三:选取导热系数不同的其他材料基板,重复步骤一及步骤二,获得不同材料基板凸起成型的规律。本发明利用飞秒激光照射硅基板产生表面凸起,并使用三维数值模型,即相场法去模拟和预测激光成型硅基表面形态,进而提出一种发明思路,飞秒激光照射其它材料形成的凸起是否符合相同的成型规律。
搜索关键词: 硅基板 飞秒激光 凸起 成型 照射 表面微结构 表面凸起 激光照射 三维数值模型 模拟和预测 材料基板 材料形成 成型规律 成型实验 导热系数 仿真分析 硅基表面 激光成型 模型理论 其他材料 数学模型 场法 构建 基板 研究 重复
【主权项】:
1.基于激光照射不同材料对表面微结构成型影响的研究方法,其特征在于如下步骤:步骤一:利用飞秒激光照射硅基板,硅基板形成表面凸起;步骤二:基于相场模型理论,构建数学模型,对硅基板凸起成型实验进行仿真分析;步骤三:选取导热系数不同的其他材料基板,重复步骤一及步骤二,获得不同材料基板凸起成型的规律。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州电子科技大学,未经杭州电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711339146.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top