[发明专利]一种氮化铝陶瓷覆铜板的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711318747.1 申请日: 2017-12-12
公开(公告)号: CN108033810A 公开(公告)日: 2018-05-15
发明(设计)人: 张珊珊;杨会生;高克玮;颜鲁春;庞晓露;杨理航;童海生;邹佳男 申请(专利权)人: 北京科技大学
主分类号: C04B41/90 分类号: C04B41/90;C04B37/02
代理公司: 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 代理人: 张仲波
地址: 100083*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种氮化铝陶瓷覆铜板的制备方法,属于覆铜基板制造技术领域。本发明在陶瓷基板的上下两个表面分别进行双层预金属化和钎焊,解决了现有的陶瓷覆铜板焊接强度低,界面应力大,使用可靠性低的问题。具体步骤为:(1)将氮化铝陶瓷进行清洗,然后采用真空磁控溅射或离子镀的方法对陶瓷表面进行离子轰击;(2)依次在陶瓷上下表面真空磁控溅射或离子镀沉积Ti、Zr、Hf或Cr金属层,Cu金属层;(3)在沉积了金属层的陶瓷基板两侧涂覆金属焊膏,装卡后在真空钎焊炉中进行高温焊接。本发明可以实现氮化铝陶瓷基板厚铜连接,工艺简单,并提高了氮化铝陶瓷厚铜金属化的效果,与直接钎焊相比界面应力更低。
搜索关键词: 一种 氮化 陶瓷 铜板 制备 方法
【主权项】:
1.一种氮化铝陶瓷覆铜板的制备方法,其特征在于工艺步骤如下:(1)将氮化铝陶瓷基片和金属铜片在有机溶剂中进行超声波清洗20-30min,去除陶瓷基片表面粘附的油渍污垢,然后进行100-200℃干燥1-5h,使陶瓷基片表面的有机物和水份充分挥发,并对陶瓷基片表面进行离子轰击,使陶瓷基片表面达到原子级清洁;(2)采用真空磁控溅射或离子镀的方法在步骤(1)中清洁过的氮化铝陶瓷基片表面依次沉积Ti、Zr、Hf或Cr金属层和Cu金属层,得到双层预金属化的氮化铝陶瓷基片;(3)对金属铜片进行酸洗,去除表面氧化物膜,得到具有新鲜表面的金属铜片;(4)在步骤(2)中得到的沉积了金属层的氮化铝陶瓷上下表面涂覆金属焊膏,对焊膏进行预干燥处理,在150-200℃保温2-5h,使焊膏中的有机溶剂充分挥发,焊膏在陶瓷基片上固化;(5)将步骤(3)中处理好的金属铜片和步骤(4)中的陶瓷基片进行装配,置于真空钎焊炉中抽真空,当炉内真空度达到5×10-4Pa时开始加热,将炉内温度加热到300-500℃保温1-3h,然后再升温至800-900℃保温30-60min进行真空焊接;保温结束后以10-20℃/min的速率快冷至700℃,之后随炉冷却至室温即完成氮化铝陶瓷金属化。
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