[发明专利]一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺有效
| 申请号： | 201711316672.3 | 申请日： | 2017-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN108127540B | 公开（公告）日： | 2021-01-12 |
| 发明（设计）人： | 王学江;杨祥魁;徐树民;王维河;徐策;徐好强;孙云飞;宋佶昌;王其伶 | 申请（专利权）人： | 山东金宝电子股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B1/00 |
| 代理公司： | 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 | 代理人： | 刘志毅 |
| 地址： | 265400 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明属于电解铜箔生产技术领域，尤其涉及一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺，步骤如下：采用抛光刷，对表面洁净干燥的阴极辊进行直接抛光，其中，抛光刷转速为120‑360r/min，抛光摆动频率为15‑80次/min，电解抛光电流为1.5‑6.0A。现有的抛光工艺多采用纯水等液体介质作为抛光液，采用这种湿法抛光工艺容易导致电解生箔针孔的产生。本发明可以在阴极辊表面直接抛光，避免了上述问题，简化工艺，同时能够有效改善阴极辊表面的形貌，利于铜结晶在阴极辊表面的有序电沉积，使电解出的铜箔表现出优异的性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电解 铜箔 生产 阴极 抛光 工艺 | ||
【主权项】：
一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺，其特征在于，包括如下步骤：采用抛光刷，对表面洁净干燥的阴极辊进行直接抛光，其中，抛光刷转速为120‑360r/min，抛光摆动频率为15‑80次/min，电解抛光电流为1.5‑6.0A。
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