[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置

摘要

本发明实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够解决现有的阵列基板中多个薄膜晶体管由于应用需求不同所需要的含氧环境不同，难以同时平衡多个薄膜晶体管的工作的稳定性的问题。包括衬底基板，还包括依次设置在衬底基板上的第一缓冲层、氧阻隔图案和第二缓冲层，以及设置在第二缓冲层上的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管，第一薄膜晶体管的沟道区在衬底基板上的正投影位于氧阻隔图案在衬底基板上的正投影的边界范围以内。其中，第一缓冲层的含氧量高于第二缓冲层的含氧量。

主权项

1.一种阵列基板，包括衬底基板，其特征在于：还包括依次设置在所述衬底基板上的第一缓冲层、氧阻隔图案和第二缓冲层，以及设置在所述第二缓冲层上的第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管，所述第一薄膜晶体管的沟道区在所述衬底基板上的正投影位于所述氧阻隔图案在所述衬底基板上的正投影的边界范围以内；其中，所述第一缓冲层的含氧量高于所述第二缓冲层的含氧量。