[发明专利]一种基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法及系统有效
| 申请号： | 201711250397.X | 申请日： | 2017-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN108037078B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 冯国进;郑春弟;林延东 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01N21/25 | 分类号： | G01N21/25;G01N21/55;G01N21/59 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;李相雨 |
| 地址： | 100013 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供的一种基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法及系统，其中所述方法包括：S1，获取光强周期性变化的光源在不同电流和不同波长下的光谱分布矩阵；S2，用所述光强周期性变化的光源照射探测器，以获取所述探测器的响应矩阵；S3，用所述光强周期性变化的光源照射测量对象，获取所述探测器的输出信号，并结合所述响应矩阵和所述光谱分布矩阵，获取所述测量对象在不同波长下的光学性能。本发明提供的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，简化了测量步骤，且该光谱仪的电路简单，使得整个测量系统的成本较低，提高了该方法和系统的实用性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 矩阵 变换 测量 材料 光学 性能 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，包括：S1，获取光强周期性变化的光源在不同电流和不同波长下的光谱分布矩阵；S2，用所述光强周期性变化的光源照射探测器，以获取所述探测器的响应矩阵；S3，用所述光强周期性变化的光源照射测量对象，获取所述探测器的输出信号，并结合所述响应矩阵和所述光谱分布矩阵，获取所述测量对象在不同波长下的光学性能。
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