[发明专利]一种基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法及系统

权利要求书

1.一种基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，包括：

S1，获取光强周期性变化的光源在不同电流和不同波长下的光谱分布矩阵；所述光谱分布矩阵包括以电流变化的辐射强度为列，以波长变化的辐射强度为行；

S2，用所述光强周期性变化的光源照射探测器，以获取所述探测器的响应矩阵；

S3，用所述光强周期性变化的光源照射测量对象，获取所述探测器的输出信号，并结合所述响应矩阵和所述光谱分布矩阵，获取所述测量对象在不同波长下的光学性能。

2.根据权利要求1所述的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，在所述步骤S1之前还包括：

将光谱仪的光源采用周期性变化的电流或电压，以得到所述光强周期性变化的光源。

3.根据权利要求1所述的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，所述步骤S1具体包括：

采用光谱辐射计获取所述光强周期性变化的光源，在不同电流和不同波长下的辐射强度，以得到辐射强度的光谱分布矩阵。

4.根据权利要求1所述的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，所述S2中获取所述探测器的响应矩阵的步骤包括：

用所述光强周期性变化的光源照射探测器，获取所述探测器在不同电流和不同波长下的输出信号，并根据所述输出信号建立第一输出信号矩阵；

对所述第一输出信号矩阵和所述光谱分布矩阵进行矩阵变换，获取所述探测器的响应矩阵。

5.根据权利要求1所述的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，所述S3中获取所述测量对象在不同波长下的光学性能的步骤包括：

用所述光强周期性变化的光源照射测量对象，获取所述探测器在一个周期内的输出信号，并根据所述输出信号建立第二输出信号矩阵；

对所述第二输出信号矩阵、所述响应矩阵和所述光谱分布矩阵进行矩阵变换，得到测量对象在不同波长下的光谱反射率和/或光谱透射率。

6.根据权利要求5所述的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，所述步骤S3中根据如下公式获取所述测量对象在不同波长下的光学性能，

∑S(λ，I)τ(λ)D(λ)＝R(λ，I)

其中，λ为任意单色光的波长，I为光强周期性变化的光源输出的电信号，即电流；S(λ，I)为光谱分布矩阵；τ(λ)为光谱反射率或者光谱透射率；D(λ)为响应矩阵；R(λ，I)为用光强周期性变化的光源照射测量对象时，探测器的输出信号矩阵，即第二输出信号矩阵。

7.根据权利要求6所述的基于矩阵变换的测量材料光学性能的方法，其特征在于，所述步骤S2中根据如下公式获取所述探测器的响应矩阵，

∑S(λ，I)D(λ)＝R(λ，I)′

其中，R(λ，I)′为用光强周期性变化的光源照射探测器时，探测器的输出信号矩阵，即第一输出信号矩阵。