[发明专利]一种制备氧化镍薄膜的低温快速液相方法在审

专利信息
申请号: 201711233102.8 申请日: 2017-11-30
公开(公告)号: CN108018541A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 夏国栋;姚书山;王素梅 申请(专利权)人: 齐鲁工业大学
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 250333 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明属于材料、化学及化工领域,特别涉及一种快速制备氧化镍薄膜的低温溶液方法。包括如下步骤:称取乙酸镍,量取溶剂,配置浓度为0.01‑0.5摩尔/升的氧化镍前驱体溶液,经过0.1‑3小时的磁力搅拌和超声分散形成澄清透明的氧化镍前驱体溶液;将氧化镍前驱体溶液涂覆到清洗好的衬底上形成氧化镍前驱体薄膜,经过1‑4.9分钟的光波退火,光波退火过程中的温度为100‑300℃;涂覆和退火可重复多次以得到不同厚度要求的氧化镍薄膜。本发明所得氧化镍薄膜性能高,有望在晶体管、太阳能电池、传感器等器件中得到应用。通过本发明的工艺可以避免通常的工艺周期长或昂贵设备等,成本低,适合工业化大规模生产。
搜索关键词: 一种 制备 氧化 薄膜 低温 快速 方法
【主权项】:
1.一种制备氧化镍薄膜的低温快速液相方法,其特征在于包括如下步骤:(1) 配置氧化镍前驱体溶液:称取可溶性的镍盐,量取溶剂,配置浓度为0.01-0.5摩尔/升的氧化镍前驱体溶液,经过0.1-3小时的磁力搅拌和超声分散形成澄清透明的氧化镍前驱体溶液;(2) 沉积氧化镍薄膜:将氧化镍前驱体溶液涂覆到清洗好的衬底上形成氧化镍前驱体薄膜,经过0.5-4.9分钟的光波退火,光波退火过程中的温度为100-300 ℃;(3) 步骤1和2可重复多次以得到不同厚度要求的氧化镍薄膜。
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