[发明专利]一种光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液及其制备方法在审
| 申请号： | 201711192174.2 | 申请日： | 2017-11-24 |
| 公开（公告）号： | CN107936847A | 公开（公告）日： | 2018-04-20 |
| 发明（设计）人： | 邵建达;雷宇;魏朝阳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，由以下成分以体积百分比组成磁性颗粒30％～40％，润湿剂1％～3％，pH调节剂0.1％～0.5％，抗腐蚀剂0.1～0.5％，表面活性剂1％～5％，触变剂0.1％～1％，抛光粉0.1％～5％，去离子水50％～60％。其制备方法是将表面活性剂与去离子水按照比例混合搅拌0.5～1小时；再将触变剂加入；按照顺序加入润湿剂、抗腐蚀剂；加入pH调节剂将pH调节至10。然后按照比例将羰基铁粉和抛光粉，搅拌1小时，将获得的初始混合磁流变抛光液加入到乳化机上搅拌得到用于光学零件的超精密加工用磁流变抛光液。本发明磁流变液剪切应力较大，再分散性能良好，材料去除效率较高，且能在机床上保持长时间的抛光稳定性能，生产工艺简单易行，能够大批量生产满足先进光学零件的超精密加工的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 零件 工用 稳定性 流变 抛光 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于由以下成分以体积百分比组成：磁性颗粒30％～40％，润湿剂1％～3％，pH调节剂0.1％～0.5％，抗腐蚀剂0.1～0.5％，表面活性剂1％～3％，触变剂0.1％～1％，抛光粉0.1％～5％，去离子水50％～60％。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711192174.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
