[发明专利]一种光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液及其制备方法

权利要求书

1.一种用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于由以下成分以体积百分比组成：磁性颗粒30％～40％，润湿剂1％～3％，pH调节剂0.1％～0.5％，抗腐蚀剂0.1～0.5％，表面活性剂1％～3％，触变剂0.1％～1％，抛光粉0.1％～5％，去离子水50％～60％。

2.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的磁性颗粒为羰基铁粉，粒径分布为1～10μm，中位粒径在3.5μm。

3.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的润湿剂为丙三醇或聚乙二醇600。

4.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的pH调节剂为碳酸钠、氢氧化钠或者硼酸钠。

5.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的抗腐蚀剂为苯甲酸钠。

6.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的表面活性剂为六偏磷酸钠或聚丙烯酸纳或木质素磺酸钠，起到悬浮分散的作用。

7.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的触变剂为纳米二氧化硅或纳米硅酸镁铝。

8.根据权利要求7所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的触变剂的粒径分布为20～80nm。

9.根据权利要求1所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的抛光粉为氧化铈、金刚石微粒、氧化铝、碳化硼、碳化硅或二氧化硅。

10.根据权利要求9所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液，其特征在于：所述的抛光粉的粒径分布为0.1μm～10μm。

11.权利要求1-10任一所述的用于光学零件加工用高稳定性磁流变抛光液的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

(1)按照去离子水50％～60％和表面活性剂1％～3％的体积分数含量，将表面活性剂添加到去离子水中，在室温下以300～400r/min搅拌0.5～1小时，得到表面活性剂溶液；

(2)按照触变剂0.1％～1％体积分数含量，将触变剂添加到表面活性剂溶液，在室温下以300～400r/min搅拌0.5～1小时，得到混合溶液；

(3)按照润湿剂1％～3％体积分数含量，将润湿剂添加到混合溶液，在室温下以300～400r/min搅拌15～30min，直至充分溶解；

(4)按照抗腐蚀剂0.1～0.5％体积分数含量，将抗腐蚀剂加入到混合溶液中，在室温下以300～400r/min搅拌15～30min；

(5)按照pH调节剂0.1％～0.5％体积分数含量，将pH调节剂加入到混合溶液中，在室温下以300～400r/min搅拌调节pH到10，得到磁流变抛光液的基载液；

(6)将步骤(5)获得的基载液与磁性颗粒30％～40％，抛光粉0.1％～5％按照体积分数含量混合，在室温下以1600～2000r/min搅拌1～2h，获得初始混合磁流变抛光液；

(7)将步骤(6)获得的初始混合磁流变抛光液加入到乳化机上以20000～28000r/min超高速剪切搅拌5～10min得到磁流变抛光液。