[发明专利]一体化氢气传感器及其制作方法有效
申请号: | 201711146853.6 | 申请日: | 2017-11-17 |
公开(公告)号: | CN107991351B | 公开(公告)日: | 2020-09-18 |
发明(设计)人: | 刘又清;金忠;谢锋;何迎辉;曹勇全 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
主分类号: | G01N27/12 | 分类号: | G01N27/12 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;廖元宝 |
地址: | 410111 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种一体化氢气传感器,包括氢敏薄膜芯片、恒温控制电路和信号处理电路,所述氢敏薄膜芯片、恒温控制电路和信号处理电路集成在同一基片上。本发明还公开了一种一体化氢气传感器的制作方法,包括步骤:S01、在基片上烧印连线、隔离层、电阻及焊盘;S02、将恒温控制电路、信号处理电路中的半导体芯片和氢敏薄膜芯片粘贴在基片预留位置;S03、将芯片焊盘和基片焊盘对应位置进行焊接引线;S04、将恒温控制电路、信号处理电路中的电容焊接在指定的位置上;S05、调试,调整各电阻和电容的参数;S06、进行性能测试,在氢敏薄膜芯片处粘贴导气管。本发明的一体化氢气传感器及其制作方法具有体积小、成本低、可靠性高等优点。 | ||
搜索关键词: | 一体化 氢气 传感器 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种一体化氢气传感器,包括氢敏薄膜芯片(1)、恒温控制电路(2)和信号处理电路(3),其特征在于,所述氢敏薄膜芯片(1)、恒温控制电路(2)和信号处理电路(3)集成在同一基片(5)上。
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