[发明专利]一种在高深宽比沟道孔刻蚀中保护侧壁的工艺

摘要

本发明提供了一种高深宽比沟道孔刻蚀中保护侧壁的工艺，包括以下步骤：提供衬底堆叠结构；在所述衬底堆叠结构上面刻蚀形成沟道孔；在所述沟道孔中沉积填充形成沟道孔侧壁堆叠结构功能薄膜；在所述侧壁堆叠结构的表面沉积保护膜，且使得所述保护膜在沟道孔顶部的厚度比沟道孔底部的厚度大。本发明工艺由于保护膜在沟道孔顶部的厚度比沟道孔底部的厚度大；使得后续干法刻蚀时，顶部的保护膜特别是沟道孔上部开口处的保护膜更耐损伤，在干法刻蚀的终了，仍能有保护膜的剩余，从而保护沟道孔侧壁的堆叠结构功能薄膜不受等离子的轰击损伤，提高沟道孔刻蚀工艺制程的良率，提高器件的电气性能。

主权项

一种高深宽比沟道孔刻蚀中保护侧壁的工艺，其特征在于，包括以下步骤：提供衬底堆叠结构；在所述衬底堆叠结构上面刻蚀形成沟道孔；在所述沟道孔中沉积填充形成沟道孔侧壁堆叠结构功能薄膜；在所述侧壁堆叠结构的表面沉积保护膜，且使得所述保护膜在沟道孔顶部的厚度比沟道孔底部的厚度大。