[发明专利]一种稀土掺杂铝酸锶长余辉薄膜制备在审
| 申请号： | 201711133528.6 | 申请日： | 2017-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN109796969A | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 江苏三联新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K11/64 | 分类号： | C09K11/64 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 223100 江苏省淮安市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种稀土掺杂铝酸锶长余辉薄膜制备，首先按名义成分制备Sr0.995Al2O4∶0.005Eu2+荧光粉和陶瓷靶材，然后在0.1 Pa的工作气压、2.5 W/cm2的功率密度和923 K的基片温度下，利用射频磁控溅射技术沉积1 h，在1223 K弱还原气氛下热处理后，得到了同质缓冲层.然后在缓冲层上继续沉积，在溅射气压0.2 Pa、功率密度2.5 W/cm2以及基片温度873 K的溅射参数下，沉积3 h，最后在相同条件下退火。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 铝酸锶长余辉 薄膜制备 稀土掺杂 荧光粉 射频磁控溅射 退火 弱还原气氛 同质缓冲层 热处理 成分制备 工作气压 溅射气压 陶瓷靶材 缓冲层 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种稀土掺杂铝酸锶长余辉薄膜制备，首先按名义成分制备Sr0.995Al2O4∶0.005Eu2+荧光粉和陶瓷靶材，然后在0.1 Pa的工作气压、2.5 W/cm2的功率密度和923 K的基片温度下，利用射频磁控溅射技术沉积1 h，在1 223 K弱还原气氛下热处理后，得到了同质缓冲层.然后在缓冲层上继续沉积，在溅射气压0.2 Pa、功率密度2.5 W/cm2以及基片温度873 K的溅射参数下，沉积3 h，最后在相同条件下退火。
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