[发明专利]一种改善化学气相沉积腔室中加热器加热性能的方法及装置有效
申请号: | 201711116531.7 | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN109778139B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 徐晓伟;何朋;杨益;张冠群;林明贤 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | C23C16/34 | 分类号: | C23C16/34;C23C16/46;C23C16/455 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
地址: | 100176 北京市大兴区大*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
本发明提供一种改善化学气相沉积腔室中加热器加热性能的方法及装置,包括:设置所述加热器至一定温度,往所述腔室中通入Ti[N(CH |
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搜索关键词: | 一种 改善 化学 沉积 腔室中 加热器 加热 性能 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种TiN薄膜的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括:提供一基材,将所述基材加热至一定温度;通入Ti[N(CH3)2]4作为反应气体,同时通入含N和H元素的气体,将所述含N和H元素的气体处理为等离子体,利用所述等离子体轰击所述反应气体并与所述反应气体发生反应,从而在所述基材表面形成具有平整表面的TiN薄膜。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的