[发明专利]一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法在审
申请号: | 201711081070.4 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN107748479A | 公开(公告)日: | 2018-03-02 |
发明(设计)人: | 徐勇 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 郝传鑫,熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括主曝光区、设置于主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、第一曝光区包括第一标尺,第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在第一分界线两侧的第一刻度分别设置于第一尺身的两侧,第二曝光区包括第二标尺,第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在第二分界线两侧的第二刻度分别设置于第二尺身的两侧,第一分界线与第二分界线与主曝光区相对的两个边缘重合,第一尺身和第二尺身共线,位于主曝光区的第一刻度与第二刻度位于第一尺身和第二尺身所在直线的同侧。利用本发明提供的掩膜版,通过反映曝光在基板上的图案来判断挡板走位是否正常,以便于及时调整挡板的位置。 | ||
搜索关键词: | 一种 判断 挡板 精度 掩膜版 及其 方法 | ||
【主权项】:
一种判断挡板走位精度的掩膜版,其特征在于,包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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