[发明专利]一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法在审
申请号: | 201711081070.4 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN107748479A | 公开(公告)日: | 2018-03-02 |
发明(设计)人: | 徐勇 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/44 | 分类号: | G03F1/44 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人: | 郝传鑫,熊永强 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 判断 挡板 精度 掩膜版 及其 方法 | ||
技术领域
本发明属于平板显示制造领域,具体涉及一种判断挡板走位精度的掩膜版及其方法。
背景技术
在LTPS/OLED制造业中,Array工艺是重要的工艺步骤之一,包括沉积、清洗、PR涂附、曝光、显影、刻蚀、PR剥离、检查。而曝光工艺是利用曝光机对涂好光刻胶的玻璃基板进行曝光,利用光刻胶的光敏性将掩膜版的图像投影到玻璃基板上。曝光工艺在整个Array工艺中占据着重要的作用。挡板是曝光机中一个重要的组件,其作用是遮挡掩膜版上不需要的区域,防止基板上的图案过大或过小。但遮光挡板是通过机械驱动的,其驱动位置受机械因素影响,在生产中可能会出现偏差。当挡板走位出现偏差时,会导致基板上的图案受到影响,使最终的产品质量下降。
发明内容
鉴于此,本发明提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括了具有第一标尺的的第一曝光区和第二标尺的第二曝光区。在实际曝光工艺中,可以通过通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。
具体地,本发明第一方面提供了一种判断挡板走位精度的掩膜版,包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。
其中,所述第一标尺还包括第一刻度数字,所述第一刻度数字设置于所述第一刻度处,所述第一刻度数字从所述第一尺身的一侧开始依次呈等差数列递增或递减,所述第二标尺还包括第二刻度数字,所述第二刻度数字设置于所述第二刻度处,所述第二刻度数字从所述第二尺身的一侧开始依次呈等差数列递减或递增。
其中,所述第一刻度数字还可以从所述第一分界线处的刻度数字开始依次向第一分界线两侧呈等差数列递增或递减,所述第二刻度数字还可以从所述第二分界线处的刻度数字开始依次向第二分界线两侧呈等差数列递增或递减。
其中,所述第一标尺还包括一对字母标注,所述一对字母标注设置于所述尺身的相对的两端。
其中,所述第一标尺和所述第二标尺的数量均为至少两个,所述至少两个第一标尺彼此间隔分布在所述主曝光共的一侧,所述至少两个第二标尺与分别与所述至少两个第一标尺一一对应设置在所述主曝光区的另一侧。
本发明第二方面提供了一种判断挡板走位精度的方法,包括以下步骤:
提供一掩膜版,第一挡板、第二挡板和基板,相对设置在所述掩膜版相对的两侧的所述第一挡板和所述第二挡板设置于所述掩膜版和所述基板之间;
所述掩膜版包括主曝光区、设置于所述主曝光区相对的两侧的第一曝光区、第二曝光区、所述第一曝光区包括第一标尺,所述第一标尺包括第一尺身、第一分界线、第一刻度,分布在所述第一分界线两侧的所述第一刻度分别设置于所述第一尺身的两侧,所述第二曝光区包括第二标尺,所述第二标尺包括第二尺身、第二分界线、第二刻度,分布在所述第二分界线两侧的所述第二刻度分别设置于所述第二尺身的两侧,所述第一分界线与所述第二分界线与所述主曝光区相对的两个边缘重合,所述第一尺身和所述第二尺身共线,位于所述主曝光区的所述第一刻度与所述第二刻度位于所述第一尺身和所述第二尺身所在直线的同侧。当扫描曝光时,通过曝光到基板上的图案来判断第一挡板和第二挡板的走位情况。
其中,走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处,若所述基板上图案中的主曝光区内的所述第一标尺和/或所述第二标尺出现缺失,则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位溢出。
其中,走位正常时所述第一挡板和所述第二挡板分别位于所述第一分界线与所述第二分界线处,若所述基板上图案中出现主曝光区之外的所述第一标尺和/或所述第二标尺,则所述第一挡板和/或所述第二挡板走位不足。
其中,所述扫描曝光包括4扫描曝光或6扫描曝光。
本发明第三方面提供了一种曝光机,包括本发明第一方面所提供的掩膜版。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711081070.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种激光转换光源装置
- 下一篇:一种APR版及一种APR版的制作方法
- 同类专利
- 专利分类
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备