[发明专利]一种等离子体放电电极的制备方法在审

专利信息
申请号: 201711061202.7 申请日: 2017-11-02
公开(公告)号: CN108054073A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 吴征威 申请(专利权)人: 吴征威
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及等离子体技术领域,尤其涉及一种等离子体放电电极的制备方法。利用沉积法在铝基座上沉积绝缘层,然后采用蚀刻法,在绝缘层上制作调节通道和凹槽,之后将固定层与绝缘层固定,之后设置氧化铝层以及调节螺杆、压缩弹簧。可通过转动调节螺母,经由调节螺杆调节固定层和氧化铝层之间的距离,对绝缘层表面的自偏压进行调节,使绝缘层表面的离子能量特性及分布状况达到工艺要求,从而减少更换电极的时间,提高等离子体设备的运行效率。
搜索关键词: 一种 等离子体 放电 电极 制备 方法
【主权项】:
1.一种等离子体放电电极的制备方法,其特征在于,等离子体放电电极包括电源固定架(1)、铝基座(2)、绝缘层(3)、调节螺杆(4)、压缩弹簧(5)、固定层(6)、氧化铝层(7)、固定螺栓(9)、射频电源(11)以及调节螺母(12);所述电源固定架(1)的一侧设置有槽体(14),所述铝基座(2)设置在所述槽体(14)的一侧,所述射频电源(11)固定于所述电源固定架(1)上与所述槽体(14)相反的一侧;所述绝缘层(3)设置于所述铝基座(2)上远离所述电源固定架(1)的一侧;所述绝缘层(3)端面设置有凹槽(15),所述绝缘层(3)的顶部和底部分别设置有与所述凹槽(15)连通的调节通道(8);所述固定层(6)和所述氧化铝层(7)均竖直设置于所述有凹槽(15)内;所述固定层(6)与所述氧化铝层(7)相互平行,所述固定层(6)位于所述凹槽(15)的外侧,所述氧化铝层(7)位于所述凹槽(15)的内侧;所述铝基座(2)的顶部和底部设置有贯穿所述铝基座(2)两端面的通孔(13);所述调节螺杆(4)呈L形,所述调节螺杆(4)设置于所述通孔(13)内;所述调节螺杆(4)伸出所述通孔(13)的一端与所述氧化铝层(7)的端部连接;所述铝基座(2)的端面与所述调节螺杆(4)之间设置有所述压缩弹簧(5);所述电源固定架(1)上对应所述通孔(13)设置有过孔(10),所述调节螺杆(4)的末端穿过所述过孔(10)的一端设置有所述调节螺母(12);所述电源固定架(1)和所述铝基座(2)之间通过所述固定螺栓(9)连接;制备方法步骤如下:利用沉积法在铝基座上沉积绝缘层,然后采用蚀刻法,在绝缘层上制作调节通道和凹槽,之后将固定层与绝缘层固定,之后设置氧化铝层以及调节螺杆、压缩弹簧。
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