[发明专利]正性光刻胶在审
| 申请号： | 201711003755.7 | 申请日： | 2017-10-24 |
| 公开（公告）号： | CN107728427A | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | 徐亮;季昌彬 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/004 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙)32235 | 代理人： | 韩晓园 |
| 地址： | 215124 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种正性光刻胶,其特征在于包括如下成分1份～20份酚醛树脂、1份～3份醚化三聚氰胺树脂、3份～8份重氮类光敏剂、0.01份～1份酸类、40份～60份极性溶剂。所述正性光刻胶通过加入醚化三聚氰胺树脂，在有机强酸等酸类的作用下，通过加热实现预固化，使得该正性光刻胶在未经HMDS处理的亲水性衬底表面有超高粘附性，尤其是二氧化硅表面有良好的粘附能力，可以简化IC芯片等制造的流程、降低制造成本和人员伤害。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 | ||
【主权项】：
一种正性光刻胶,其特征在于：包括如下成分：1份～20份酚醛树脂、1份～3份醚化三聚氰胺树脂、3份～8份重氮类光敏剂、0.01份～1份酸类、40份～60份极性溶剂。
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