[发明专利]在合适相对湿度范围的光配向层的加工方法有效
| 申请号： | 201710965808.7 | 申请日： | 2017-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN108073001B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 石玥;郭海成;何跃龙;赵晨项 | 申请（专利权）人： | 香港科技大学 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/137 |
| 代理公司： | 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 | 代理人： | 曹津燕 |
| 地址： | 中国香港*** | 国省代码： | 香港;81 |
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| 摘要： | 本发明提供一种在合适相对湿度范围的光配向层的加工方法，其中使用的光配向材料为非复合偶氮染料、光聚合的偶氮染料复合物材料或热聚合的偶氮染料复合物材料，使光配向材料均匀地覆盖基板，然后曝光以提供一致的配向，所述光为线性偏振光。在本发明相对湿度下光配向获得的光配向层质量良好。 | ||
| 搜索关键词： | 合适 相对湿度 范围 加工 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光配向层的加工方法，其特征在于光配向在低于75％的相对湿度下操作，其中使用的光配向材料为非复合偶氮染料、光聚合的偶氮染料复合物材料或热聚合的偶氮染料复合物材料，光配向材料通过旋涂、流延或打印方法均匀地覆盖基板，然后曝光以提供一致的配向，所述光为线性偏振光，优选紫外光或蓝光。
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