[发明专利]在合适相对湿度范围的光配向层的加工方法有效
| 申请号: | 201710965808.7 | 申请日: | 2017-10-17 |
| 公开(公告)号: | CN108073001B | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
| 发明(设计)人: | 石玥;郭海成;何跃龙;赵晨项 | 申请(专利权)人: | 香港科技大学 |
| 主分类号: | G02F1/1337 | 分类号: | G02F1/1337;G02F1/137 |
| 代理公司: | 北京瑞恒信达知识产权代理事务所(普通合伙) 11382 | 代理人: | 曹津燕 |
| 地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 合适 相对湿度 范围 加工 方法 | ||
1.一种光配向层的加工方法,其特征在于光配向在低于75%的相对湿度下操作,其中使用的光配向材料为非复合偶氮染料或光聚合的偶氮染料复合物材料,光配向材料通过旋涂、流延或打印方法均匀地覆盖基板,然后曝光以提供一致的配向,所述光为线性偏振光;
其中,非复合偶氮染料光配向的相对湿度是40%-75%;
光聚合的偶氮染料复合物材料光配向的相对湿度是50%-75%。
2.如权利要求1所述的光配向层的加工方法,其中所述光为紫外光或蓝光。
3.如权利要求1所述的光配向层的加工方法,其中所述非复合偶氮染料是硫酸基偶氮染料,其名称为四钠5,5'-((1E,1'E)-(2,2'-二磺酸-[1,1'-联苯]-4,4'-二基)双(二氮烯-2,1-二基))二(2-羟基苯甲酸)。
4.如权利要求1所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料包含偶氮染料、聚合物单体和光引发剂的混合物。
5.如权利要求4所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料中的偶氮染料是硫酸基偶氮染料,其名称为四钠5,5'-((1E,1'E)-(2,2'-二磺酸-[1,1'-联苯]-4,4'-二基)双(二氮烯-2,1-二基))二(2-羟基苯甲酸)。
6.如权利要求4所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料中的聚合物单体是具有液晶性质的聚合物单体。
7.如权利要求4所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料中的聚合物单体是4-(3-丙烯酰氧基丙氧基)-苯甲酸2-甲基-1,4-苯基酯。
8.如权利要求4所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料中的光引发剂是1-羟基-环己基-苯基-酮或2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙酮。
9.如权利要求1或3所述的光配向层的加工方法,其中非复合偶氮染料以合适的浓度溶解在二甲基甲酰胺溶剂中,非复合偶氮染料与溶剂的重量比为0.5%-5%。
10.如权利要求9所述的光配向层的加工方法,其中非复合偶氮染料以合适的浓度溶解在二甲基甲酰胺溶剂中,非复合偶氮染料与溶剂的重量比为0.5%-1%。
11.如权利要求4-8中任一项所述的光配向层的加工方法,其中偶氮染料、聚合物单体以及光引发剂以合适的浓度混合并溶解在二甲基甲酰胺溶剂中。
12.如权利要求11所述的光配向层的加工方法,其中偶氮染料和聚合物单体以1:1的重量比例混合,偶氮染料和聚合物单体各自相对于使用的溶剂的重量百分比为0.5%-5%,其中光引发剂相对于聚合物单体的重量百分比为1%-30%。
13.如权利要求11所述的光配向层的加工方法,其中偶氮染料和聚合物单体以1:1的重量比例混合,偶氮染料和聚合物单体各自相对于使用的溶剂的重量百分比为1%,其中光引发剂相对于聚合物单体的重量百分比为10%-20%。
14.如权利要求1-3、10中任一项所述的光配向层的加工方法,其中非复合偶氮染料光配向的相对湿度是50%-70%。
15.如权利要求9所述的光配向层的加工方法,其中非复合偶氮染料光配向的相对湿度是50%-70%。
16.如权利要求1、2、4-8、12-13中任一项所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料光配向的相对湿度是55%-70%。
17.如权利要求11所述的光配向层的加工方法,其中光聚合的偶氮染料复合物材料光配向的相对湿度是55%-70%。
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