[发明专利]一种基于纳米银焊膏双面互连碳化硅MOS器件的模块化封装方法在审

专利信息
申请号: 201710954332.7 申请日: 2017-10-13
公开(公告)号: CN107910324A 公开(公告)日: 2018-04-13
发明(设计)人: 梅云辉;谢宜静;付善灿;陆国权;李欣 申请(专利权)人: 天津大学
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H01L29/16;H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 天津市北洋有限责任专利代理事务所12201 代理人: 王丽
地址: 300350 天津市津南区海*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明涉及一种基于纳米银焊膏双面互连碳化硅MOS器件的模块及封装方法;由功率端子、上DBC基板、下DBC基板、纳米银焊膏、缓冲层、n对碳化硅FRED芯片和碳化硅MOS芯片、栅极电阻、粗铝丝、硅凝胶和模制树脂组成;分别将碳化硅MOS芯片下表面、碳化硅FRED芯片下表面以及缓冲层的下表面平行并联在下DBC基板;同样上DBC基板进行同样的连接;将碳化硅MOS芯片和碳化硅FRED芯片的上表面与上DBC基板的缓冲层上表面相连,同样的,下DBC基板的缓冲层与上DBC基板的碳化硅MOS芯片和碳化硅FRED芯片相互连接。功率芯片和缓冲层与DBC基板的连接均采用纳米银焊膏,具有烧结温度低、熔点高和热导率高优点。
搜索关键词: 一种 基于 纳米 银焊膏 双面 互连 碳化硅 mos 器件 模块化 封装 方法
【主权项】:
一种基于纳米银焊膏双面互连碳化硅MOS器件的模块;由功率端子1、上DBC基板2、下DBC基板3、纳米银焊膏4、缓冲层5、n对碳化硅FRED芯片6和碳化硅MOS芯片7、栅极电阻8、粗铝丝9、硅凝胶和模制树脂组成;其特征是分别将所述碳化硅MOS芯片的下表面、碳化硅FRED芯片的下表面以及缓冲层的下表面平行并联在下DBC基板;同样上DBC基板进行同样的连接;然后将碳化硅MOS芯片和碳化硅FRED芯片的上表面与上DBC基板的缓冲层上表面相连,同样的,下DBC基板的缓冲层与上DBC基板的碳化硅MOS芯片和碳化硅FRED芯片相互连接。
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