[发明专利]彩膜基板及制造方法、增加膜层厚度的结构有效

专利信息
申请号: 201710947981.4 申请日: 2017-10-12
公开(公告)号: CN107505766B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 曹武 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1339
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;熊永强
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明实施例公开了一种彩膜基板,包括:下基板;色阻层,所述色阻层包括第一色阻部和第二色阻部;疏水薄膜层,其形成在第二色阻部和下基板上,且所述疏水薄膜层由第二色阻部上面延伸到邻近所述第一色阻部;间隔物层,其包括位于第一色阻部上的主间隔物和位于第二色阻部上的辅间隔物;其中,当所述间隔物层位于第一色阻部上时形成的第三接触角小于当所述间隔物层位于疏水薄膜层上时形成的第四接触角,以使间隔物层向主间隔物处汇聚用于增加主间隔物与所述辅间隔物之间的段差。本发明实施例还公开了一种彩膜基板的制造方法、增加膜层厚度的结构。采用本发明,具有改善膜层由于流平而厚度降低的优点。
搜索关键词: 彩膜基板 制造 方法 增加 厚度 结构
【主权项】:
一种彩膜基板,其特征在于,包括:下基板;色阻层,其形成在所述下基板上,所述色阻层包括第一色阻部和第二色阻部,所述第一色阻部和所述第二色阻部分离设置;疏水薄膜层,其形成在第二色阻部和下基板上,且所述疏水薄膜层由第二色阻部上面延伸到邻近所述第一色阻部;间隔物层,其通过湿膜涂布在所述疏水薄膜层和所述第一色阻部上,其包括位于第一色阻部上的主间隔物和位于第二色阻部上的辅间隔物;其中,当所述间隔物层位于第一色阻部上时形成的第三接触角小于当所述间隔物层位于疏水薄膜层上时形成的第四接触角,以使间隔物层向主间隔物处汇聚用于增加主间隔物与所述辅间隔物之间的段差。
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