[发明专利]彩膜基板及制造方法、增加膜层厚度的结构

权利要求书

1.一种彩膜基板，其特征在于，包括：

下基板；

色阻层，其形成在所述下基板上，所述色阻层包括第一色阻部和第二色阻部，所述第一色阻部和所述第二色阻部分离设置；

疏水薄膜层，其形成在第二色阻部和下基板上，且所述疏水薄膜层由第二色阻部上面延伸到邻近所述第一色阻部；

间隔物层，其通过湿膜涂布在所述疏水薄膜层和所述第一色阻部上，其包括位于第一色阻部上的主间隔物和位于第二色阻部上的辅间隔物；其中，

当所述间隔物层位于第一色阻部上时形成的第三接触角小于当所述间隔物层位于疏水薄膜层上时形成的第四接触角，以使间隔物层向主间隔物处汇聚用于增加主间隔物与所述辅间隔物之间的段差。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第三接触角范围为40°～60°；或/和第四接触角范围为80°～140°。

3.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻部的横向截面积大于所述第二色阻部的横向截面积。

4.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述疏水薄膜层环绕所述第一色阻部的侧边。

5.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一色阻部上表面相对第一水平面的高度高于第二色阻部相对第一水平面的高度。

6.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述段差的范围为0.3μm～0.9μm。

7.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述疏水薄膜层的材料为氟化聚合物。

8.一种制造彩膜基板的方法，其特征在于，包括：

提供下基板；

在下基板上形成色阻层，所述色阻层包括第一色阻部和第二色阻部，所述第一色阻部和所述第二色阻部分离设置；

在第二色阻部和下基板上形成疏水薄膜层，所述疏水薄膜层由第二色阻部上面延伸到邻近所述第一色阻部；

通过湿膜涂布间隔物层在所述疏水薄膜层和所述第一色阻部上，所述间隔物层包括位于第一色阻部上的主间隔物和位于第二色阻部上的辅间隔物，其中，当所述间隔物层位于第一色阻部上时形成的第三接触角小于当所述间隔物层位于疏水薄膜层上时形成的第四接触角，以使间隔物层向主间隔物处汇聚用于增加主间隔物与所述辅间隔物之间的段差。

9.一种增加膜层厚度的结构，其特征在于，包括：

第一基板；

第一膜层，其形成在所述第一基板部分区域上；

疏水膜层，其形成在所述第一基板上且挨着所述第一膜层设置，所述疏水膜层的厚度小于第一膜层的厚度，以使所述第一膜层的上表面的高度大于所述疏水膜层的上表面的高度；

第二膜层，其通过湿膜涂布在所述第一膜层上，所述第二膜层还延伸到疏水膜层上；其中，

当所述第二膜层位于第一膜层上时形成的第一接触角小于当第二膜层位于疏水膜层上时形成的第二接触角，以使第二膜层向第一膜层上方汇聚用于增加第二膜层在第一膜层上的厚度。

10.如权利要求9所述的增加膜层厚度的结构，其特征在于，所述第二膜层位于第一膜层上的第一接触角范围为40°～60°；或/和所述第二膜层位于疏水膜层上时形成的第二接触角范围为80°～140°。