[发明专利]用于进行等离子体化学气相沉积工艺的方法和设备有效
| 申请号： | 201710931629.1 | 申请日： | 2017-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN107893217B | 公开（公告）日： | 2021-04-27 |
| 发明（设计）人： | M·J·N·范·斯特劳伦;I·米莉瑟维奇;G·克拉普斯浩斯;T·布勒尔斯 | 申请（专利权）人： | 德拉克通信科技公司 |
| 主分类号： | C23C16/513 | 分类号： | C23C16/513 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 荷兰代*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种用于进行等离子体化学气相沉积工艺的方法和设备。该设备包括大致圆柱形的谐振器，该谐振器设置有圆柱形外壁和同轴的圆柱形内壁，在该圆柱形外壁和该圆柱形内壁之间限定能够以工作频率进行工作的谐振腔。该谐振腔绕该圆柱形外壁和该圆柱形内壁的圆柱轴在圆周方向上延伸。此外，圆柱形外壁包括能够连接至输入波导的输入端口。另外，圆柱形内壁包括绕圆柱轴在圆周方向上延伸的狭缝部。限定狭缝部的孔径的最大尺寸小于工作频率的波长的一半。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 进行 等离子体 化学 沉积 工艺 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德拉克通信科技公司，未经德拉克通信科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710931629.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
