[发明专利]适用于GPP二极管制造的负性光刻胶有效
| 申请号： | 201710855085.5 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107561862B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 马骥;卞玉桂 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 215124 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种适用于GPP二极管制造的负性光刻胶，包括：环化聚异戊二烯、溶剂、光敏剂、流平剂及耦合剂。所述光敏剂为2，6‑二[（4‑叠氮基苯基）亚甲基]‑4‑甲基‑环己酮；所述流平剂为聚醚改性聚二甲基硅氧烷共聚体；所述耦合剂为乙烷氧基铝二异丙基，且所述耦合剂的质量浓度范围为50～1000ppm。本发明负性光刻胶主要用于GPP二极管制造工艺中的硅片腐蚀，提高涂布膜厚的同时不影响涂布后胶面的均一性，能够满足GPP二极管制造进程中70μm～150μm不同蚀刻深度的要求；缩减负性光刻胶的组分优化与开发周期，降低成本。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 gpp 二极管 制造 光刻 | ||
【主权项】：
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