[发明专利]适用于GPP二极管制造的负性光刻胶有效
| 申请号： | 201710855085.5 | 申请日： | 2017-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN107561862B | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 马骥;卞玉桂 | 申请（专利权）人： | 苏州瑞红电子化学品有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/038 | 分类号： | G03F7/038;G03F7/004 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 215124 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 适用于 gpp 二极管 制造 光刻 | ||
1.一种适用于GPP二极管制造的负性光刻胶，其特征在于，所述负性光刻胶的质量组成为：
环化聚异戊二烯，5～45％；
溶剂，30～85％；
光敏剂，5～25％，所述光敏剂为2，6-二[(4-叠氮基苯基)亚甲基]-4-甲基-环己酮；
流平剂，20～500ppm，所述流平剂为聚醚改性聚二甲基硅氧烷共聚体；
耦合剂，50～1000ppm，所述耦合剂为乙烷氧基铝二异丙基。
2.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述环化聚异戊二烯的分子量为10万～14万，分子量分布为1.0～1.03，环化率为62～65％。
3.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述溶剂为二甲苯与乙苯的混合溶剂，其中乙苯含量为20～45％，间二甲苯含量不低于40％。
4.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述流平剂的分子量为1000～2500。
5.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述溶剂的质量浓度范围设置为64.5～74.5％。
6.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述环化聚异戊二烯的质量浓度范围为18～30％。
7.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述流平剂的质量浓度范围为100～200ppm。
8.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于：所述耦合剂的质量浓度范围为150～300ppm。
9.根据权利要求1至8任一项所述的负性光刻胶，其特征在于，所述负性光刻胶的质量组成为：
环化聚异戊二烯，18～30％；
溶剂，64.5～74.5％；
光敏剂，5～10％；
流平剂，100～200ppm；
耦合剂，150～300ppm。
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