[发明专利]一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法

摘要

本发明揭示了一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法，一次性全表面气相沉积支架包括共轴的第一支架和第二支架，所述第一支架上形成有至少一个第一支撑平面，所述第二支架上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面；第一状态下，每个所述第一支撑平面高于与其对应的所述第二支撑平面；第二状态下，每个所述第一支撑平面低于与其对应的所述第二支撑平面。本发明设计精巧，采用两套支架结构，并使一支架中的每个支撑平面可高于或低于另一支架中的对应支撑平面，可以自动切换与工件接触的支架，进而改变工件被遮蔽的位置，实现一次性沉积，自动化程度高，操作简单，不需要停止沉积过程，减少了时间成本，大大提高了沉积效率。

主权项

1.一次性全表面气相沉积支架，其特征在于：包括共轴的第一支架（1）和第二支架（2），所述第一支架（1）上形成有至少一个第一支撑平面，所述第二支架（2）上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面，第一状态下，每个所述第一支撑平面高于与其对应的第二支撑平面；第二状态下，每个所述第一支撑平面低于与其对应的第二支撑平面。