[发明专利]一次性全表面气相沉积支架、气相沉积炉及其沉积方法有效
申请号: | 201710773760.X | 申请日: | 2017-08-31 |
公开(公告)号: | CN109423628B | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 鞠涛;崔志国;张立国;范亚明;张泽洪;张宝顺 | 申请(专利权)人: | 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32297 | 代理人: | 陆明耀 |
地址: | 215125 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一次性 表面 沉积 支架 及其 方法 | ||
1.一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:包括共轴的第一支架(1)和第二支架(2),所述第一支架(1)上形成有至少一个第一支撑平面,所述第一支架(1)上具有指定组数的第一支撑点(11),每组第一支撑点(11)的顶端等高且形成多层具有高度 差的第一支撑平面,所述第二支架(2)上形成有与每个第一支撑平面匹配且共轴的第二支撑平面,所述第二支架(2)上设置有与每组第一支撑点(11)对应的第二支撑点(21),每组第二支撑点(21)的顶端等高且形成多层具有高度差的第二支撑平面,每组第二支撑点(21)与第一支撑点(11)错位分布;
第一状态下,每个所述第一支撑平面高于与其对应的第二支撑平面;
第二状态下,每个所述第一支撑平面低于与其对应的第二支撑平面。
2.根据权利要求1所述的一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:每组第一支撑点(11)和第二支撑点(21)的数量为3个,且它们均分圆周。
3.根据权利要求1所述的一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:所述第一支架(1)包括支撑板(12),所述支撑板(12)的中心位置开设有通孔,所述支撑板(12)的一面中心设置有与其垂直的中空转轴(13),其另一面设置有至少3根均分圆周且与其垂直的支杆(14),每根支杆(14)上设置有一组具有高度差且与其垂直的横杆(15),每根横杆(15)向所述支撑板(12)的中心方向延伸,每个所述横杆(15)上设置有一第一支撑点(11);
所述第二支架(2)包括位于支撑板(12)上方的发散板(22),所述发散板(22)包括一组均分圆周的分片(221),每个分片(221)延伸到相邻支杆(14)之间的区域且其上设置有一立杆(23),每根立杆(23)上设置有与所述横杆(15)一一对应的连杆(24),每个连杆(24)上设置一第二支撑点(21),所述发散板(22)的背面设置有延伸到所述中空转轴(13)中的连接轴(25)。
4.根据权利要求1-3任一所述的一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:所述第二支架(2)还连接驱动其上下移动的顶升机构。
5.根据权利要求4所述的一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:所述顶升机构是丝杆升降装置。
6.根据权利要求5所述的一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:所述第二支架(2)还连接驱动其绕其中心轴自转的第一驱动装置,所述第一驱动装置跟随所述第二支架(2)上下移动。
7.根据权利要求4所述的一次性全表面气相沉积支架,其特征在于:所述第一支架(1)连接驱动其绕其中心轴自转的第二驱动装置。
8.一次性全表面气相沉积炉,包括真空室(5),其特征在于:还包括权利要求1-7任一所述的一次性全表面气相沉积支架。
9.根据权利要求8所述的一次性全表面气相沉积炉,其特征在于:所述第一支架(1)的转轴和第二支架的连接轴(25)均延伸到所述真空室(5)外,并分别通过磁流体密封与所述真空室(5)可转动地连接。
10.根据权利要求8所述的一次性全表面气相沉积炉,其特征在于:所述第一支撑平面、第二支撑平面均位于石墨导流罩(6)中,所述石墨导流罩(6)的外周及底部设置有用于加热且缠绕有电阻丝的内衬石墨(7),所述内衬石墨(7)的外周包覆有保温层(8),所述保温层(8)是石墨毡层。
11.根据权利要求8所述的一次性全表面气相沉积炉,其特征在于:还包括侧面供气口,供气口均分真空室(5)的圆周面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,未经中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710773760.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的