[发明专利]一种用于制备镁合金EBSD样品的电解抛光液及电解抛光方法有效
| 申请号： | 201710761658.8 | 申请日： | 2017-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN107541768B | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 宋仁伯;蔡长宏;汪孪祥;黄良 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | C25F3/18 | 分类号： | C25F3/18 |
| 代理公司： | 11237 北京市广友专利事务所有限责任公司 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于制备镁合金EBSD样品的电解抛光液及电解抛光方法，属于镁合金表面处理技术领域。所述电解抛光液每升中各组分含量为：正丙醇90～100ml、高氯酸10～15ml、去离子水15～20ml、羟基喹啉8～12g、柠檬酸60～70g、硫氰酸钠40～45g，余量为无水乙醇。本发明的电解抛光液，能有效去除镁合金表面的应力层及氧化层，电解抛光后镁合金表面平整且光亮清洁、无连续腐蚀坑，与现有的镁合金电解抛光液相比，具有材料来源广泛、配制简单、价格低廉、标定率高等优点；本发明还公开了一种易于操作、成本较低且效果稳定的镁合金EBSD样品电解抛光方法。 | ||
| 搜索关键词： | 电解抛光液 镁合金表面 电解抛光 镁合金 柠檬酸 制备镁合金 材料来源 硫氰酸钠 去离子水 无水乙醇 效果稳定 羟基喹啉 腐蚀坑 高氯酸 氧化层 应力层 正丙醇 标定 去除 配制 平整 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种用于制备镁合金EBSD样品的电解抛光液，其特征在于，所述电解抛光液每升中各组分含量为：正丙醇90～100ml、高氯酸10～15ml、去离子水15～20ml、羟基喹啉8～12g、柠檬酸60～70g、硫氰酸钠40～45g，余量为无水乙醇；/n所述电解抛光液的电解抛光温度为0℃，电解抛光的时间在30～60s，抛光电压为20～25V，抛光电流为0.1～0.5A；/n所述镁合金EBSD样品为ZK30挤压态镁合金、ZK30-Nd挤压时效态镁合金、ZK60挤压时效态镁合金、ZK21挤压时效态镁合金、ZK60挤压态镁合金、ZK20-Nd挤压态镁合金。/n
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