[发明专利]半导体结构及虚拟图案布局的设计方法

摘要

本发明公开一种半导体结构及虚拟图案布局的设计方法，该半导体结构包括基底、多个虚拟导电结构与多个电阻元件。基底包括电阻区，且具有位于电阻区中的多个隔离结构与多个虚拟支撑图案。每个隔离结构位于相邻两个虚拟支撑图案之间。每个虚拟导电结构设置于每个隔离结构上且与两侧的虚拟支撑图案等距。电阻元件设置于虚拟导电结构上方且对准虚拟导电结构。该半导体结构可防止低图案密度区中的虚拟导电结构与密集区中的导电结构产生桥接。

主权项

1.一种半导体结构，其特征在于，包括：基底，包括电阻区，且具有位于所述电阻区中的多个隔离结构与多个虚拟支撑图案，其中每个隔离结构位于相邻两个虚拟支撑图案之间；多个虚拟导电结构，其中每个虚拟导电结构设置于每个隔离结构上且与两侧的所述多个虚拟支撑图案等距；以及多个电阻元件，设置于所述多个虚拟导电结构上方且对准所述多个虚拟导电结构。