[发明专利]图案的形成方法在审
| 申请号： | 201710686758.9 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN108957948A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王忠诚;陈俊光;赵家峥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/40 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;章侃铱 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开的一些实施例提供一种应用于微电子技术领域的图案的形成方法，包括：通过能量束对设置在晶圆上的光刻胶层进行曝光，使用曝光后烘烤设备对具有曝光后光刻胶层的晶圆实施曝光后烘烤，在曝光后烘烤之后，对曝光后光刻胶层进行显影，藉此形成光刻胶图案，曝光后烘烤设备包含烘烤盘，当晶圆的温度在预定温度范围时，将晶圆放置在烘烤盘上以进行曝光后烘烤。本公开的一些实施例提供的图案的形成方法可以更精准地控制晶圆的温度。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 晶圆 光刻胶层 烘烤 烘烤设备 烘烤盘 图案 微电子技术领域 光刻胶图案 能量束 显影 应用 | ||
【主权项】：
1.一种图案的形成方法，包括：通过一能量束对设置在一晶圆上的一光刻胶层进行曝光；使用一曝光后烘烤设备对具有曝光后光刻胶层的该晶圆实施一曝光后烘烤；以及在该曝光后烘烤之后，将该曝光后光刻胶层显影，藉此形成一光刻胶图案，其中：该曝光后烘烤设备包含一烘烤盘，以及当该晶圆的一温度在一预定温度范围内时，将该晶圆放置在该烘烤盘上以进行该曝光后烘烤。
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