[发明专利]图案的形成方法在审
| 申请号： | 201710686758.9 | 申请日： | 2017-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN108957948A | 公开（公告）日： | 2018-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王忠诚;陈俊光;赵家峥 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/40 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李昕巍;章侃铱 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 晶圆 光刻胶层 烘烤 烘烤设备 烘烤盘 图案 微电子技术领域 光刻胶图案 能量束 显影 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种图案的形成方法，包括：
通过一能量束对设置在一晶圆上的一光刻胶层进行曝光；
使用一曝光后烘烤设备对具有曝光后光刻胶层的该晶圆实施一曝光后烘烤；以及
在该曝光后烘烤之后，将该曝光后光刻胶层显影，藉此形成一光刻胶图案，其中：
该曝光后烘烤设备包含一烘烤盘，以及
当该晶圆的一温度在一预定温度范围内时，将该晶圆放置在该烘烤盘上以进行该曝光后烘烤。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710686758.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：全自动量产型软膜复制设备
- 下一篇：一种纳米压印方法
