[发明专利]一种离子束刻蚀系统有效
| 申请号： | 201710680517.3 | 申请日： | 2017-08-10 |
| 公开（公告）号： | CN107610994B | 公开（公告）日： | 2019-06-07 |
| 发明（设计）人： | 李娜;胡冬冬;刘训春;许开东 | 申请（专利权）人： | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01J37/305;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京得信知识产权代理有限公司 11511 | 代理人： | 袁伟东;阿苏娜 |
| 地址： | 221300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开一种离子束刻蚀系统，包括刻蚀腔体和刻蚀电极，还包括电极变位装置，用于使所述电极在所述刻蚀腔体内变化工作位置，所述电极变位装置包括动密封机构、电极动平衡配重机构、电极变位传动机构、以及电极变位驱动机构，所述刻蚀腔体包括腔室以及与所述腔室相连接的腔盖，所述腔室呈不规则形状。本发明的优点在于，可以实现对晶片的多角度刻蚀。另外，通过对刻蚀腔体的腔室形状进行特殊设计，能够节省占地空间，方便与其他外界设备连接，大幅度提高刻蚀工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 离子束 刻蚀 系统 | ||
【主权项】：
1.一种离子束刻蚀系统，包括刻蚀腔体和刻蚀电极，其特征在于，还包括电极变位装置，用于使所述刻蚀电极在所述刻蚀腔体内变化工作位置，所述电极变位装置包括动密封机构、电极动平衡配重机构、电极变位传动机构、以及电极变位驱动机构，所述刻蚀腔体包括腔室以及与所述腔室相连接的腔盖，所述腔室呈不规则形状。
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