[发明专利]一种离子束刻蚀系统有效

专利信息
申请号: 201710680517.3 申请日: 2017-08-10
公开(公告)号: CN107610994B 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 李娜;胡冬冬;刘训春;许开东 申请(专利权)人: 江苏鲁汶仪器有限公司
主分类号: H01J37/30 分类号: H01J37/30;H01J37/305;H01J37/02
代理公司: 北京得信知识产权代理有限公司 11511 代理人: 袁伟东;阿苏娜
地址: 221300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 离子束 刻蚀 系统
【权利要求书】:

1.一种离子束刻蚀系统,包括刻蚀腔体和刻蚀电极,其特征在于,

还包括电极变位装置,用于使所述刻蚀电极在所述刻蚀腔体内变化工作位置,所述电极变位装置包括动密封机构、电极动平衡配重机构、电极变位传动机构、以及电极变位驱动机构,

所述刻蚀腔体包括腔室以及与所述腔室相连接的腔盖,所述腔室呈不规则形状。

2.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

所述腔室包括局部圆筒体、侧板、锥形过渡部和底板,所述侧板在侧方将所述局部圆筒体封闭,所述底板通过所述锥形过渡部与所述局部圆筒体的其中一端连接并将所述局部圆筒体的所述一端封闭。

3.根据权利要求2所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

在所述侧板上开设有用于安装离子源的圆形孔,在所述底板上开设有用于衬底传输机构出入的矩形窗口。

4.根据权利要求2所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

在所述腔室的所述局部圆筒体上焊接端面法兰,在所述端面法兰上开设密封槽,所述腔盖与所述腔室通过由密封圈和所述密封槽构成的静密封结构连接。

5.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

所述动密封机构安装于所述腔盖上,所述动密封机构是磁流体密封装置。

6.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

所述电极变位传动机构包括摇臂、过渡轴和联轴器,所述摇臂安装于所述腔室内部,所述摇臂的一端与所述刻蚀电极连接,所述摇臂的另一端与伸入到所述腔室内部的转子相连接。

7.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

所述电极变位驱动机构是电机、电缸或气缸。

8.根据权利要求1所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

所述电极动平衡配重机构包括配重板和配重块,所述配重板固定在靠近过渡轴位置处的转子上,所述配重块沿着转子的纵轴方向固定在所述配重板上。

9.根据权利要求8所述的离子束刻蚀系统,其特征在于,

所述刻蚀电极能够定位于三个以上的工作位置进行刻蚀。

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