[发明专利]一种基板防污罩及基板磨边设备有效
| 申请号： | 201710662883.6 | 申请日： | 2017-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN107322406B | 公开（公告）日： | 2019-11-19 |
| 发明（设计）人： | 徐天宇;张燕斌;刘锋;李海博;宋海波;唐伟鑫;高娜;崔昌燮;池昶恂;李京洙;张溶源 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | B24B9/10 | 分类号： | B24B9/10;B24B55/06;B08B15/02;B08B3/02;B08B11/04 |
| 代理公司： | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 郭润湘<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种基板防污罩及基板磨边设备。基板防污罩，包括：罩体，罩体具有防护侧，防护侧在基板磨边设备的工作过程中与待研磨的基板相对设置；水幕装置，在基板磨边设备的工作过程中，水幕装置用于在罩体的防护侧上形成流向基板的第一水幕，第一水幕所在的平面与基板之间在远离待研磨边的一侧的夹角小于90°，且在基板的待研磨边方向上，第一水幕的长度大于或等于基板的长度；冲洗装置，在基板磨边设备的工作过程中，冲洗装置用于在罩体的防护侧向基板排放清洗液体。可解决现有技术中的防污罩在磨边工艺后玻璃基板上残留的粉尘数量较多，进而降低OLED显示面板良率的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 磨边设备 罩体 研磨 防污罩 防护 水幕 冲洗装置 水幕装置 基板相对设置 后玻璃基板 侧向基板 良率 磨边 粉尘 清洗 残留 排放 | ||
【主权项】：
1.一种基板防污罩，用于基板磨边设备，其特征在于，包括：/n罩体，所述罩体具有防护侧，所述防护侧在所述基板磨边设备的工作过程中与待研磨的基板相对设置；/n水幕装置，在所述基板磨边设备的工作过程中，所述水幕装置用于在所述罩体的防护侧上形成流向所述基板的第一水幕，所述第一水幕所在的平面与所述基板之间在远离所述待研磨边的一侧的夹角小于90°，且在所述基板的待研磨边方向上，所述第一水幕的长度大于或等于所述基板的长度；/n冲洗装置，在所述基板磨边设备的工作过程中，所述冲洗装置用于在所述罩体的防护侧向所述基板排放清洗液体；其中，/n在所述基板磨边设备的工作过程中，所述水幕装置还用于在所述罩体的防护侧上形成流向所述基板的第二水幕，所述第二水幕位于所述第一水幕远离所述待研磨边的一侧，所述第二水幕所在的平面与所述基板之间在远离所述待研磨边的一侧的夹角小于90°，且在所述基板的待研磨边方向上，所述第二水幕的长度大于或等于所述基板的长度；/n所述水幕装置包括用于流出所述第一水幕的第一缝隙、以及用于流出所述第二水幕的第二缝隙；/n所述第一缝隙和所述第二缝隙平行且均靠近于所述罩体的一个边，所述第一缝隙与所述边的距离小于或等于30mm，所述第二缝隙与所述边的距离小于或等于50mm。/n
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