[发明专利]连续性活性炭处理装置及处理系统和应用

摘要

本发明提供了连续性活性炭处理装置及处理系统和应用，涉及废液处理技术领域。该连续性活性炭处理装置，包括塔体以及设置在塔体内部的至少一段活性炭吸附区，活性炭吸附区采用挡板隔设形成，挡板上设置有第一水帽和第二水帽，第一水帽和第二水帽均可实现废液自下向上的流动，而活性炭只能通过第二水帽自上向下流动，该装置实现了活性炭自上段活性炭吸附区向下段活性炭吸附区的的自动补充和废液的连续处理，改善了传统固定床式活性炭过滤装置需要停机更换活性炭，从而使得处理过程不能连续运行、处理效率低下的缺陷。本发明提供的连续性活性炭处理系统，采用上述连续性活性炭处理装置，自动化程度高，节约了人力成本，提高了处理效率。

主权项

1.一种连续性活性炭处理装置，其特征在于，包括塔体以及设置在塔体内部的至少一段活性炭吸附区，所述活性炭吸附区内设有活性炭，所述活性炭吸附区采用挡板隔设形成；/n所述挡板上设有若干个第一水帽和第二水帽，废液通过所述第一水帽和第二水帽能够自下向上流动，所述第二水帽的滤孔大于所述活性炭的尺寸，使得所述活性炭能够通过所述第二水帽自上向下流动；/n所述第一水帽和所述第二水帽均包括中空导管、帽座和位于帽座上方的帽沿；/n所述帽座包括底座和滤栅，所述底座与所述中空导管相连接，所述底座上开有导流孔，所述导流孔与所述中空导管相贯通；所述滤栅位于所述底座上并沿底座圆周方向均布，相邻的两个所述滤栅之间留有孔隙从而形成滤孔；/n所述帽沿设置于所述滤栅上方，并与所述滤栅固定连接；/n所述第一水帽的帽沿的横截面积大于或者等于所述帽座的横截面积，所述第二水帽的帽沿的横截面积小于所述帽座的横截面积；/n所述塔体下部设有废液入口，所述塔体上部设有处理液出口，废液通过所述废液入口进入到所述塔体内部，经过所述活性炭吸附区处理后，从所述处理液出口排出；/n在靠近所述处理液出口的下方设有活性炭入口，所述塔体底部设有活性炭出口。/n