[发明专利]一种薄膜晶体管及其制作方法、OLED显示面板有效
| 申请号： | 201710602821.6 | 申请日： | 2017-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN107195689B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 康峰;白妮妮;刘亮亮;唐亮 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | H01L29/786 | 分类号： | H01L29/786;H01L21/336 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种薄膜晶体管及其制作方法、OLED显示面板，用以采用形成薄膜晶体管中栅极的图形的掩膜版形成LDD区域，从而节省了制作成本。所述薄膜晶体管的制作方法，包括：在衬底基板上依次形成多晶硅膜层和栅极绝缘层；采用构图工艺在具有所述栅极绝缘层的衬底基板之上形成栅极的图形；对具有所述栅极的图形的衬底基板进行第一次掺杂；采用形成所述栅极的图形的掩膜版在经过所述第一次掺杂之后的衬底基板上形成第一光刻胶的图形，所述第一光刻胶的图形覆盖所述栅极的图形以及用于形成轻掺杂漏区的区域；对具有所述第一光刻胶的图形的衬底基板进行第二次掺杂，形成有源层的图形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜晶体管 及其 制作方法 oled 显示 面板 | ||
【主权项】：
一种薄膜晶体管的制作方法，在衬底基板上依次形成多晶硅膜层和栅极绝缘层；其特征在于，该方法还包括：采用构图工艺在具有所述栅极绝缘层的衬底基板之上形成栅极的图形；对具有所述栅极的图形的衬底基板进行第一次掺杂；采用形成所述栅极的图形的掩膜版在经过所述第一次掺杂之后的衬底基板上形成第一光刻胶的图形，所述第一光刻胶的图形覆盖所述栅极的图形以及用于形成轻掺杂漏区的区域；对具有所述第一光刻胶的图形的衬底基板进行第二次掺杂，形成有源层的图形。
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