[发明专利]物镜保护装置、物镜系统以及光刻设备有效
| 申请号： | 201710602722.8 | 申请日： | 2017-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN109283797B | 公开（公告）日： | 2021-04-30 |
| 发明（设计）人： | 李先明;郝保同 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种物镜保护装置、物镜系统以及光刻设备，所述物镜保护装置包括一主体结构，所述主体结构具有送气单元和抽排单元，所述送气单元输出气体，所述抽排单元对所述送气单元输出的气体进行抽排，从而在所述送气单元和所述抽排单元之间形成至少一层风幕。在本发明提供的物镜保护装置中，利用送气单元和抽排单元形成风幕，当装置运行时，在横向细密均匀的送风口作用下，可以有效控制出风流速，将风控制在层流状态，保证风幕的流场均匀，同时，在第一抽风口的作用下，形成了一层覆盖整个镜片的风幕，可以有效将由下而上挥发的有机物阻挡，消除其与镜片直接接触的机会，防止物镜镜片受到光刻胶的有机物挥发污染，保证物镜的成像质量。 | ||
| 搜索关键词： | 物镜 保护装置 系统 以及 光刻 设备 | ||
【主权项】：
1.一种物镜保护装置，其特征在于，所述物镜保护装置包括一主体结构，所述主体结构具有送气单元和抽排单元，所述送气单元输出气体，所述抽排单元对所述送气单元输出的气体进行抽排，从而在所述送气单元和所述抽排单元之间形成至少一层风幕。
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