[发明专利]一种遮光层、彩色滤光片及显示面板有效
申请号: | 201710596533.4 | 申请日: | 2017-07-20 |
公开(公告)号: | CN107329364B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 唐道矜;翁国光 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G02F1/1335;G09F9/00 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 钟子敏 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种遮光层、彩色滤光片及显示面板。多个拼接的镜头的曝光机通过该遮光层进行曝光,该曝光机包括交替设置的第一区域和第二区域,第二区域对应于多个镜头的拼接处,在该曝光机进行曝光时,该曝光机所产生的光通过第一区域的光强度和通过第二区域的光强度相等。通过这种方式,能够在提高彩色滤光片及显示面板的透光率的同时,改善其显示效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 遮光 彩色 滤光 显示 面板 | ||
【主权项】:
一种遮光层,曝光机通过所述遮光层进行曝光,所述曝光机包括多个拼接的镜头,其特征在于,所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域,所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处,在所述曝光机进行曝光时,所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等。
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- 专利分类
G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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