[发明专利]一种遮光层、彩色滤光片及显示面板有效
| 申请号： | 201710596533.4 | 申请日： | 2017-07-20 |
| 公开（公告）号： | CN107329364B | 公开（公告）日： | 2020-06-05 |
| 发明（设计）人： | 唐道矜;翁国光 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00;G02F1/1335;G09F9/00 |
| 代理公司： | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人： | 钟子敏 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 遮光 彩色 滤光 显示 面板 | ||
1.一种遮光层，曝光机通过所述遮光层进行曝光，所述曝光机包括多个拼接的镜头，其特征在于，所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处，在所述曝光机进行曝光时，所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等；
所述遮光层进一步包括掩膜板，所述曝光机所产生的光通过位于所述第一区域的掩膜板的光强度大于通过位于所述第二区域的掩膜板的光强度；
所述遮光层进一步包括半透膜或半色调膜，设置在所述掩膜板上，所述半透膜或半色调膜位于所述第一区域的透光率小于所述半透膜或半色调膜位于所述第二区域的透光率。
2.根据权利要求1所述的遮光层，其特征在于，所述半色调膜包括多个透光区及多个遮光区，多个所述透光区及多个所述遮光区交替分布。
3.根据权利要求2所述的遮光层，其特征在于，所述透光区的形状为圆形、多边形中的任意一种。
4.一种彩色滤光片，其特征在于，包括：
黑色矩阵层；
所述黑色矩阵层是利用遮光层作为掩膜，在曝光机的曝光下形成；所述曝光机包括多个拼接的镜头；
所述遮光层包括交替设置的第一区域和第二区域，所述第二区域对应于所述多个镜头的拼接处，在所述曝光机进行曝光时，所述曝光机所产生的光通过所述第一区域的光强度和通过所述第二区域的光强度相等；
所述遮光层进一步包括掩膜板，所述曝光机所产生的光通过位于所述第一区域的掩膜板的光强度大于通过位于所述第二区域的掩膜板的光强度；
所述遮光层进一步包括半透膜，设置在所述掩膜板上，所述半透膜位于所述第一区域的透光率小于所述半透膜位于所述第二区域的透光率。
5.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求4所述的彩色滤光片。
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G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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