[发明专利]介电掺杂且富含锑的GST相变存储器有效
| 申请号: | 201710580652.0 | 申请日: | 2017-07-17 |
| 公开(公告)号: | CN108807453B | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
| 发明(设计)人: | 郑怀瑜;龙翔澜 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/24 | 分类号: | H01L27/24;H01L45/00 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
| 地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 提出的相变存储器材料为介电掺杂、富含锑(antimony‑rich)的GST家族材料,其相对于GST‑225具有较多的锑,此材料具有速度、保持、及耐受特性,适于储存级数据储存装置。一种存储装置包含含有多个存储单元的一阵列。各个存储单元包含一第一电极及一第二电极。第二电极耦接至一存储器元件。存储元件包含具有相变存储材料的一基底。相变存储材料包含Ge、Sb及Te的一组合与一介电添加物,其在总量上足以(effective to)提供大于160℃的晶型转变温度。在一些有效范例中可提供大于170℃的晶型转变温度。在其他有效范例中可提供大于190℃的晶型转变温度。一控制器耦接至阵列,且被设置以对阵列中的存储单元执行数个设定操作及数个复位操作。 | ||
| 搜索关键词: | 掺杂 富含 gst 相变 存储器 | ||
【主权项】:
1.一种相变材料,包含GexSbyTez,其中x、y、z为原子百分比,该相变材料的一Ge原子浓度x为13%至18%,该相变材料的一Sb原子浓度x为18%至32%,该相变材料的一Te原子浓度z为34%至50%,且该相变材料还包含介电添加物,该介电添加物的一原子浓度为10%至30%。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





