[发明专利]介电掺杂且富含锑的GST相变存储器有效

专利信息
申请号: 201710580652.0 申请日: 2017-07-17
公开(公告)号: CN108807453B 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 郑怀瑜;龙翔澜 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/24 分类号: H01L27/24;H01L45/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提出的相变存储器材料为介电掺杂、富含锑(antimony‑rich)的GST家族材料,其相对于GST‑225具有较多的锑,此材料具有速度、保持、及耐受特性,适于储存级数据储存装置。一种存储装置包含含有多个存储单元的一阵列。各个存储单元包含一第一电极及一第二电极。第二电极耦接至一存储器元件。存储元件包含具有相变存储材料的一基底。相变存储材料包含Ge、Sb及Te的一组合与一介电添加物,其在总量上足以(effective to)提供大于160℃的晶型转变温度。在一些有效范例中可提供大于170℃的晶型转变温度。在其他有效范例中可提供大于190℃的晶型转变温度。一控制器耦接至阵列,且被设置以对阵列中的存储单元执行数个设定操作及数个复位操作。
搜索关键词: 掺杂 富含 gst 相变 存储器
【主权项】:
1.一种相变材料,包含GexSbyTez,其中x、y、z为原子百分比,该相变材料的一Ge原子浓度x为13%至18%,该相变材料的一Sb原子浓度x为18%至32%,该相变材料的一Te原子浓度z为34%至50%,且该相变材料还包含介电添加物,该介电添加物的一原子浓度为10%至30%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710580652.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top