[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201710570203.8 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN109251677B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈研磨颗粒、苯甲酸类化合物及pH调节剂。采用上述组分的抛光液，可以显著提高其对二氧化硅介质层的抛光速率，抑制氮化硅的抛光速率，提高二氧化硅对氮化硅的选择比，同时克服现有技术中抛光速率不均匀的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液包含氧化铈研磨颗粒、苯甲酸类化合物及pH调节剂。
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