[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201710570203.8 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN109251677B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【权利要求书】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液由氧化铈研磨颗粒、苯甲酸类化合物、pH调节剂以及水组成；
其中，所述胺基苯甲酸为3，5-二胺基苯甲酸；
所述氧化铈研磨颗粒包含溶胶型氧化铈。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述氧化铈研磨颗粒的浓度为0.05％-1.5％。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述3,5-二胺基苯甲酸的浓度为320ppm～1000ppm。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH值为3.5-5.5。
5.如权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，所述pH调节剂为氢氧化钾(KOH)和/或硝酸(HNO3)。
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