[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201710569720.3 | 申请日： | 2017-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN109251673A | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | 李守田;尹先升;贾长征;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子科技（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种化学机械抛光液，包含氧化铈磨料颗粒、聚季铵盐及pH调节剂。本发明中的聚季铵盐可控制氧化硅的抛光速率，使得在高压下达到高的氧化硅抛光速率，在低压下实现低的氧化硅的抛光速率，从而取得较低碟形凹陷(dishing)。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 氧化硅 化学机械抛光液 聚季铵盐 氧化铈磨料 碟形凹陷 可控制 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，包含氧化铈磨料、聚季铵盐及pH调节剂。
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