[发明专利]一种提高光吸收率的量子阱红外探测器及其制作方法有效
申请号: | 201710498986.3 | 申请日: | 2017-06-27 |
公开(公告)号: | CN107393997B | 公开(公告)日: | 2019-06-07 |
发明(设计)人: | 康晓旭 | 申请(专利权)人: | 上海集成电路研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L31/101 | 分类号: | H01L31/101;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高光吸收率的量子阱红外探测器及其制造方法,所述探测器包括衬底、量子阱单元、上电极、上电极欧姆接触层、介质层、下电极和下电极欧姆接触层,所述衬底表面含有竖直的凸起物,所述下电极位于下电极欧姆接触层的上方,且下电极周边为介质层,所述量子阱单元采用外延生长法沉积在所述衬底表面下电极和介质层之外的区域,位于衬底表面凸起物上的量子阱单元为多面体,所述上电极通过上电极欧姆接触层和量子阱单元的最下层连接,其中,欧姆接触层通过离子注入工艺形成。本发明提供的一种提高光吸收率的量子阱红外探测器具有多个吸收面,有效地提高了量子阱红外探测器的吸收效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 提高 吸收率 量子 红外探测器 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种提高光吸收率的量子阱红外探测器,其特征在于,包括硅衬底、量子阱单元、上电极、上电极欧姆接触层、介质层、下电极和下电极欧姆接触层,所述硅衬底表面含有竖直的凸起物,含有竖直凸起物的硅衬底表面通过离子注入形成下电极欧姆接触层,所述下电极位于下电极欧姆接触层的上方,且下电极周边为介质层,所述量子阱单元采用外延生长法沉积在所述硅衬底表面下电极和介质层之外的区域,位于硅衬底表面的凸起物和硅衬底平面上对应的晶面不同,在所述硅衬底表面凸起物上外延生长多面体的量子阱单元,且所述量子阱单元的水平截面面积大于所述凸起物的水平截面面积,所述上电极欧姆接触层位于所述量子阱单元的最上层中,且所述上电极欧姆接触层上方为上电极,所述下电极通过下电极欧姆接触层和量子阱单元的最下层连接。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的