[发明专利]曝光处理方法、装置和终端设备

摘要

本发明公开了一种曝光处理方法、装置和终端设备，其中，方法包括：识别图像中的至少两个目标区域，确定至少两个目标区域的第一曝光参数，根据至少两个目标区域中各目标区域在图像中所占面积，调整各目标区域对应的权重值，根据各目标区域的第一曝光参数和对应的权重值，计算得到图像的第二曝光参数，根据图像的第二曝光参数，对图像进行曝光处理。通过将图像识别为不同的目标区域，根据确定的不同目标区域对应的第一曝光参数和权重值计算得到图像的第二曝光参数，该图像的第二曝光参数充分考虑了不同目标区域对曝光参数的影响，解决了逆光条件下因过曝导致无法清晰成像的技术问题。

主权项

1.一种曝光处理方法，其特征在于，包括以下步骤：识别图像中的至少两个目标区域；确定所述至少两个目标区域的第一曝光参数；根据所述至少两个目标区域中各目标区域在所述图像中所占面积，调整各目标区域对应的权重值，包括：若包含人脸的目标区域和/或包含身体的目标区域在所述图像中所占面积比例低于第一阈值，调高所述包含人脸的目标区域和/或所述包含身体的目标区域对应的权重值，以及调低包含背景的目标区域对应的权重值；若包含背景的目标区域所占面积比例高于第二阈值，调高所述包含人脸的目标区域对应的权重值和/或所述包含身体的目标区域对应的权重值，以及调低所述包含背景的目标区域对应的权重值；根据各目标区域的第一曝光参数和对应的权重值，计算得到所述图像的第二曝光参数；根据所述图像的第二曝光参数，对所述图像进行曝光处理。