[发明专利]曝光处理方法、装置和终端设备有效

专利信息
申请号: 201710459556.0 申请日: 2017-06-16
公开(公告)号: CN107241558B 公开(公告)日: 2019-07-19
发明(设计)人: 曾元清 申请(专利权)人: OPPO广东移动通信有限公司
主分类号: H04N5/243 分类号: H04N5/243;H04N5/235
代理公司: 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 代理人: 张润
地址: 523860 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 曝光 处理 方法 装置 终端设备
【说明书】:

发明公开了一种曝光处理方法、装置和终端设备,其中,方法包括:识别图像中的至少两个目标区域,确定至少两个目标区域的第一曝光参数,根据至少两个目标区域中各目标区域在图像中所占面积,调整各目标区域对应的权重值,根据各目标区域的第一曝光参数和对应的权重值,计算得到图像的第二曝光参数,根据图像的第二曝光参数,对图像进行曝光处理。通过将图像识别为不同的目标区域,根据确定的不同目标区域对应的第一曝光参数和权重值计算得到图像的第二曝光参数,该图像的第二曝光参数充分考虑了不同目标区域对曝光参数的影响,解决了逆光条件下因过曝导致无法清晰成像的技术问题。

技术领域

本发明涉及移动终端技术领域,尤其涉及一种曝光处理方法、装置和终端设备。

背景技术

逆光是一种由于被摄物恰好处于光源和照相机之间的状况,这种状况极易造成使被摄物曝光不充分的情况。尽管在一些时候,可以利用逆光产生的特殊效果作为一种艺术摄影的技法,但是,在大多数情况下,会产生成像不清晰的问题。

尤其是在对人像进行拍摄时,在逆光条件下,无法对人脸五官等细节进行清晰地成像,在拍摄的照片中,往往仅能够看到人像的大致轮廓。这是由于在逆光条件下,采用现有技术中的拍摄方式,根据整幅照片计算曝光补偿值,导致人像出现了欠曝光,导致照片中,人像部分偏暗,而包含光源的背景则出现了过曝光的问题,进而出现了这种逆光条件下无法清晰成像的情况。

发明内容

本发明的目的旨在至少在一定程度上解决上述的技术问题之一。

为此,本发明的第一个目的在于提出一种曝光处理办法,通过将图像识别为不同的目标区域,根据确定的不同目标区域对应的第一曝光参数和权重值计算得到图像的第二曝光参数,该图像的第二曝光参数充分考虑了不同目标区域对曝光参数的影响,解决了逆光条件下因过曝导致无法清晰成像的技术问题。

本发明的第二个目的在于提出一种曝光处理装置。

本发明的第三个目的在于提出一种终端设备。

本发明的第四个目的在于提出另一种终端设备。

本发明的第五个目的在于提出一种计算机可读存储介质。

本发明的第六个目的在于提出一种计算机程序产品。

为了实现上述目的,本发明第一方面实施例提出了一种曝光处理方法,该方法为:

识别图像中的至少两个目标区域;

确定所述至少两个目标区域的第一曝光参数;

根据所述至少两个目标区域中各目标区域在所述图像中所占面积,调整各目标区域对应的权重值;

根据各目标区域的第一曝光参数和对应的权重值,计算得到所述图像的第二曝光参数;

根据所述图像的第二曝光参数,对所述图像进行曝光处理。

本发明的曝光处理方法中,识别图像中的至少两个目标区域,确定至少两个目标区域的第一曝光参数,根据至少两个目标区域中各目标区域在图像中所占面积,调整各目标区域对应的权重值,根据各目标区域的第一曝光参数和对应的权重值,计算得到图像的第二曝光参数,根据图像的第二曝光参数,对图像进行曝光处理。通过将图像识别为不同的目标区域,根据确定的不同目标区域对应的第一曝光参数和权重值计算得到图像的第二曝光参数,该图像的第二曝光参数充分考虑了不同目标区域对曝光参数的影响,解决了逆光条件下因过曝导致无法清晰成像的技术问题。

为了实现上述目的,本发明第二方面实施例提出了一种曝光处理装置,该装置包括:

识别模块,用于识别图像中的至少两个目标区域;

确定模块,用于确定所述至少两个目标区域的第一曝光参数;

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