[发明专利]阻焊剂图案的形成方法在审
申请号: | 201710457179.7 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN107526251A | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 后闲宽彦;丰田裕二 | 申请(专利权)人: | 三菱制纸株式会社 |
主分类号: | G03F7/027 | 分类号: | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/16 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 陈巍,李炳爱 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | [课题]本发明的课题在于,提供一种阻焊剂图案的形成方法,该形成方法按顺序至少包括在至少具有连接焊盘的电路基板上形成阻焊剂层的步骤,和将未固化的阻焊剂层薄膜化直至阻焊剂层的厚度为连接焊盘的厚度以下的薄膜化步骤,在形成方法中,阻焊剂层的薄膜化所需的时间可以缩短,生产性得以提高。[解决手段]阻焊剂图案的形成方法,其特征在于,在将未固化的阻焊剂层薄膜化的薄膜化步骤中使用的碱性水溶液含有(A)碱性化合物和(B)铵离子,(B)铵离子相对于(A)碱性化合物的摩尔比(B/A)超过0.00且低于1.85。 | ||
搜索关键词: | 焊剂 图案 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种阻焊剂图案的形成方法,其是按顺序至少包括以下步骤的阻焊剂图案的形成方法:在至少具有连接焊盘的电路基板上形成阻焊剂层的步骤,和将未固化的阻焊剂层薄膜化直至阻焊剂层的厚度为连接焊盘的厚度以下的薄膜化步骤,其特征在于,在薄膜化步骤中使用的碱性水溶液包含(A)碱性化合物和(B)铵离子,(B)铵离子相对于(A)碱性化合物的摩尔比(B/A)超过0.00且低于1.85。
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