[发明专利]一种钴盐溶液深度除铜的方法

摘要

本发明涉及一种钴盐溶液深度除铜的方法，采用两段除铜工艺对氯化钴溶液进行除铜。在一段除铜使用的再生除铜剂，其原料来源于二段除铜产出的除铜渣，最终排出合格的铜渣；二段除铜时加入硫代碳酸钴，产生合格的除铜后液。本发明充分利用了除铜渣可再生为除铜剂的特点，可将铜浓度降至1mg/L以下，并获得铜钴比高于15/1的除铜渣。

主权项

一种钴盐溶液深度除铜的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：除铜剂再生将Na₂CS₃溶液加入至盛有二段除铜渣的容器中，进行溶解反应，然后再加入CoCl₂，搅拌反应，析出沉淀物，所得沉淀物，即为再生除铜剂；所述Na₂CS₃溶液的加入量，按下述公式确定：Na₂CS₃加入的摩尔量＝n×待除铜液中的总铜摩尔量‑渣中剩余的Co摩尔量，所述n为1.0～1.6；所述CoCl₂的摩尔量为Na₂CS₃摩尔量的1.2～2.0倍；步骤二：一段除铜将待除铜液与步骤一所获得的再生除铜剂反应，进行一段除铜，固液分离，获得的滤渣为一段除铜渣，获得的滤液为一段除铜后液；所述待除铜溶液中含有钴、铜；步骤三：二段除铜向一段除铜后液中加入硫代碳酸钴进行二段除铜，固液分离，获得的滤液为二段除铜后液；获得的滤渣为二段除铜渣，二段除铜渣返回步骤一中进行再生处理。