[发明专利]一种铒掺杂二硫化钼薄膜的制备方法有效
申请号: | 201710421009.3 | 申请日: | 2017-06-07 |
公开(公告)号: | CN107313023B | 公开(公告)日: | 2019-10-25 |
发明(设计)人: | 蒲红斌;杨勇;张珊;邸君杰 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/448 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 61214 | 代理人: | 胡燕恒 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明的公开了一种铒掺杂二硫化钼薄膜的制备方法,包括以下步骤:步骤1、将硫粉置于一温区;将三氧化钼粉及氯化铒粉置于二温区;将衬底放在坩埚表面,然后将坩埚放置在三温区;步骤2、将真空管式炉内抽真空,向真空管式炉中通载气进行清洗;步骤3、继续通所述载气,将二温区加热到150~350℃,将三温区加热到150~350℃;步骤4、设置三温区预蒸发和预成核的温度梯度为‑150℃~150℃,得气态的MoO3‑x,其中0 | ||
搜索关键词: | 一种 掺杂 二硫化钼 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种铒掺杂二硫化钼薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、使用三温区化学气相沉积系统,将硫粉置于一温区;将三氧化钼粉及氯化铒粉置于二温区;将衬底放在带盖的坩埚底部,然后将坩埚放置在三温区;步骤2、将石英管内抽真空,向石英管内中通载气进行清洗;步骤3、第一加热阶段:继续通所述载气,将二温区加热到150~350℃,保持60~180min;将三温区加热到150~350℃,保持60~180min;步骤4、第二加热阶段:充气使石英管内压强为大气压后,调节载气流量,设置二温区和三温区温度差为0~200℃,加热二区温度到580~800℃,保持10~60min,得气态的MoO3‑x,其中0<x≤1;加热三温区到580~700℃,保持10~60min;步骤5、第三加热阶段:加热一温区到130~220℃,保持10~60min,得到硫蒸气;步骤6、第四加热阶段:将二温区加热到800℃~950℃,保持10~60min;将三温区加热到750℃~900℃,保持10~60min;通过所述载气将所述硫蒸气、氯化铒蒸汽及所述气态的MoO3‑x携带至坩埚反应腔内,在衬底表面形成铒掺杂二硫化钼薄膜;步骤1中硫粉与三氧化钼粉的质量比为:20:1~250:1;三氧化钼粉与氯化铒的质量比为:1:1~6:1;步骤5中调整所述载气流速至10~80ccm;步骤3中第一加热阶段二温区及三温区的升温速率均为10~35℃/min;步骤4中第二加热阶段二温区及三温区的升温速率均为15~50℃/min。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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